Donderdag 6 juni organiseert Werf& het seminar Recruitmenttooling tijdens Recruitment + Talent Tech Demo_Day. Zeven sprekers nemen deelnemers mee in de wereld van recruitmenttooling, van recruitmentsystemen tot selectietooling. Naast een aantal experts delen ook een aantal gebruikers hun ervaringen met recruitmenttooling.
Recruitmenttooling steeds belangrijker
Tooling speelt een steeds grotere rol binnen recruitment vandaag de dag. Binnen iedere fase van het recruitmentproces is er technologie die de recruiter helpt zijn of haar werk nog beter te kunnen doen. Of zelfs overneemt. Van tools voor sourcing en recruitment marketing tot het recruitmentsysteem (ATS) en e-assessment tools. Hoe kunnen recruitmenttools het recruitmentproces optimaal faciliteren, welke tools zijn er en hoe selecteer je de tools die bij jouw organisatie en situatie passen?
Programma
Martijn Hemminga, onder meer oprichter van Demo_Day en Werf&, staat stil bij het belang van recruitmenttooling en waarom deze moet aansluiten bij de organisatiedoelstellingen. Monique de Jong (Raycruitment en Meest Invloedrijke Recruiter van 2018) laat zien waar het perfecte recruitmentsysteem aan voldoet en Robin Dennie (Head of Innovations bij Quaestus & Luke Recruitment) vertelt over waarom zij hun recruitmenttooling uit Amerika halen. Bas van de Haterd (o.a. Digitaal-Werven en Talent Acquisition Live) sluit het seminar af waarin hij de laatste stand van zaken deelt over digitale assessment tooling. Het seminar wordt geleid door Eveliese Luiting (zelfstandig Talent Acquisition strategist en bestuurslid Recruiters United).
Tot 9 maart nog 150 euro korting
De investering voor dit event is € 395,- per persoon, maar als je je aanmeldt vóór 9 maart 2019 profiteer je van € 150,- Super Early Bird korting en betaal je € 245,-. Wanneer je je aanmeldt voor het seminar krijg je na afloop gratis toegang tot Recruitment + Talent Tech Demo_Day, ontvang je het jaarboek de Recruitment Tech Guide 2019 en de Recruitment Tech Landscape in poster-vorm.
Meer informatie vind je hier.